半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统

SyftGuardian半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统是一套集中式多点位监测解决方案,可持续监测不同区域内的挥发性化合物。系
 SyftGuardian半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统是一套集中式多点位监测解决方案,可持续监测不同区域内的挥发性化合物。系统适用于半导体晶圆厂空气分子污染物(AMC)管控、厂界排放监测,以及聚合物和制药生产环境的室内空气质量监测。依托SyftTracer™平台,Guardian可提供稳定可靠的全天候连续分析。  
通过优化的采样设计、自动化工作流程及内置的可定制软件,系统无需繁琐的人工采样和实验室分析,即可对多种化学性质各异的化合物进行高选择性的痕量定量分析。由此构建的监测网络兼具稳定性与可扩展性,便于用户掌握复杂生产环境中的浓度变化,并对不同区域的趋势进行直观比较。  
核心优势  
持续开展多点位采样,无需人工逐点采集样品。  
分析流程简便,无需由受过专门培训的技术人员长期值守。  
对关键化合物的检测灵敏度可低至pptV级,并可输出定量浓度;报警阈值可按应用需求灵活设定。  
单个点位可在数分钟内自动完成分析,无需样品前处理。  
由同一供应商提供完整系统,并配备可扩展、可定制的化合物库。  
结合多种反应机制与精准可控的电离过程,获得准确、稳定且可靠的浓度结果。  
半导体洁净室AMC监测(左上);半导体冷却剂与工艺废气处理效率分析(右上);半导体车间内酸类与无机物分析(左下);化工厂/化工园区环境与厂界监测(右下)  
半导体洁净室AMC监测  
持续监测洁净室环境中的关键空气分子污染物。无机物及腐蚀性酸类可能对设备和产品造成缺陷;当浓度超过设定值时,系统可自动触发阈值报警,便于及时响应。  
面向半导体晶圆厂工艺废气治理系统效率评估及冷却剂泄漏监测,提供一体化环境空气分析方案。可由一套系统覆盖传统上往往需要多台不同分析仪才能完成的化合物监测。  
半导体晶圆厂AMC多点位连续在线监测系统  
http://www.syfttech.cn/Products-40294651.html  
https://www.chem17.com/st701066/product_40294651.html  
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