PECVD设备

PECVD设备产品用途:1200℃滑动双温区PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活
  PECVD设备

产品用途:

1200℃滑动双温区PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。


产品组成:

PECVD系统配置:

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统(可选配中真空或高真空)  


产品特点:

1200℃滑动双温区PECVD系统生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。


天津中环电炉股份有限公司立于1993年,2015年公司进行股份制改造,更名为天津中环电炉股份有限公司。公司集研发、制造、营销能力于一身,为众多科研院所、大学提供实验室电炉系统及服务并深受用户肯定;以北大、清华、中科院各院所等为代表的客户群体已经超过一千家,并为客户完成科研项目做出了自己的贡献。截至到目前,公司已经成功研发出深受用户肯定的21个系列260多个品种的产品,同时公司的研发团队已具备为客户量身打造特殊需求的实验室电炉系统的能力。二十多年以来,公司的品牌在客户的口碑中得以不断的成长,同时在政府的扶植下取得了可喜的荣誉。
https://www.chem17.com/st102089/erlist_1156085.html
http://www.ctjzh.net/Products-24804630.html


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